Producto
ICP-RIE SI 500
Sistema de grabado mediante plasma inducido acoplado.
El sistema SI 500 representa la vanguardia del procesamiento de plasma inducido acoplado tanto en investigación como en producción.
Podremos procesar una gran variedad de sustratos desde obleas de hasta 200mm hasta piezas cargadas en soportes.
Configuraremos nuestro equipo para el procesamiento de una gran variedad de materiales, incluidos, entre otros, semiconductores compuestos III-V, materiales dieléctricos, cuarzo, vidrio, silicio y metales.
El continuo desarrollo e inversión para estar cerca de nuestros clientes nos permite disponer de una amplia cobertura geográfica con sedes en las principales ciudades de España y Portugal, y soporte comercial y técnico en todas las comunidades que nos sitúa SIEMPRE CERCA DE USTED.
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