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Sistema SI 500D

Sistema de PECVD que gera um plasma de alta densidade, baixa energia iónica e pessão.

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Sistema SI 500D

O sistema de deposição plasma enhanced SI 500D está configurado para depositar SiO2, SiNx, SiONx  e camadas de a-Si entre temperatura ambiente e até aos 350ºC.

Este sistema é especialmente concebido para a deposição de barreiras protectoras em materiais orgânicos altamente eficientes a baixas temperaturas e a deposição de camadas de passivação a temperaturas definidas.

Contacto

O contínuo desenvolvimento e investimento para estar próximo dos nossos clientes levou-nos a dispor de uma ampla cobertura geográfica com sedes nas principais cidades em Espanha e Portugal, e apoio comercial e técnico em todas as áreas territoriais permite-nos estar SEMPRE PERTO DE SI.

Tel: 800 787 888

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