Produto

Linha Mill

Sistema de gravação com base em iões beam etching

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Línea Mill

A linha Mill de Scia permitir-lhe-á gravar bolachas até 150mm, 200mm ou 300mm.

Uma fonte circular de feixe de iões desenhará o seu padrão em toda a superfície da pastilha. Ideal para estruturar memórias MRAM e sensores (IR, GMR, TMR), para fresagem de metais na produção de MEMS ou para a produção de estruturas tridimensionais para componentes optoelectrónicos, entre muitas outras aplicações.

Contacto

O contínuo desenvolvimento e investimento para estar próximo dos nossos clientes levou-nos a dispor de uma ampla cobertura geográfica com sedes nas principais cidades em Espanha e Portugal, e apoio comercial e técnico em todas as áreas territoriais permite-nos estar SEMPRE PERTO DE SI.

Tel: 800 787 888

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