Produto

ICP-RIE SI 500

Sistema de gravação de plasma induzido acoplado.

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ICP-RIE SI 500

O sistema SI 500 representa a vanguarda do processamento de plasma induzido acoplado, tanto na investigação como na produção.

Seremos capazes de processar uma grande variedade de substratos desde tamanhos de 200mm até peças com carga de substrato.

Configuraremos o nosso equipamento para processar uma grande variedade de materiais, incluindo mas não limitados a semicondutores compostos III-V, dieléctricos, quartzo, vidro, silício e metais.

Contacto

O contínuo desenvolvimento e investimento para estar próximo dos nossos clientes levou-nos a dispor de uma ampla cobertura geográfica com sedes nas principais cidades em Espanha e Portugal, e apoio comercial e técnico em todas as áreas territoriais permite-nos estar SEMPRE PERTO DE SI.

Tel: 800 787 888

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